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微電子行業(yè)制備超純水流程中,因紫外線技術(shù)在超純水高品質(zhì)要求中不引入新的物質(zhì),而得到廣泛應(yīng)用。
有機物是超純水系統(tǒng)中最難控制的污染,隨著集成電路臨界尺寸不斷縮小挑戰(zhàn),對超純水中TOC值的要求越來越高,因此,如何配置紫外線,如何確認(rèn)配置中紫外線設(shè)備的有效紫外劑量,進而使TOC去除合格且水中溶解氧不升高,安力斯將為您解決這些運營困擾。
185nmUV主要用于去除超純水制備過程中的TOC,使出水滿足美國ASTM超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)及電子工業(yè)部電子級水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
TOC超純水
產(chǎn)品規(guī)格:
處理水量 | 2~60m3/h |
燈管配置 | 12~48支 |
燈管類型 | 85w/155w(185/254nm雙波段) |
石英套管 | T>80%@185nm |
鎮(zhèn)流器 | 50~100%輸出功率可調(diào) |
反應(yīng)器材質(zhì) | 316L |
潔凈等級 | 內(nèi)外電解拋光、表面光潔度10以上(≤Ra0.2) |
法蘭尺寸 | DN50~DN200 |
額定壓力 | PN10 |
控制柜等級 | IP55,碳鋼噴塑 |
控制系統(tǒng) | 本地/遠(yuǎn)程、觸摸屏、連接SCADA系統(tǒng) |
UV強度傳感器 | 分辨率0.01mw/cm2 |